Laser Lithographie

Der Micro Pattern Generator MikroPG 101 ist ein direktschreibendes Laser-Lithographie-System zur maskenlosen Belichtung von UV-aktivierten Fotolacken. Es ist gut geeignet für Arbeiten im Labormaßstab, für Einzelanfertigungen und Kleinstserien.

Wichtige Fakten zusammengefasst:

• In der vorliegenden Konfiguration (Write Mode II) beträgt die minimale Strukturgröße 1 µm.

• Als Substrat können unterschiedlichen Materialien (Glas, Silizium, Diamant ...) verwendet werden.

• Als Fotolack (resist) können sowohl positive (d.h. die belichteten Regionen werden entfernt), als auch negative Resists (die belichteten Regionen bleiben stehen) verwendet werden. Nach der Belichtung folgt die sogenannte Entwicklung, bei der das unerwünschte Material in einem nass-chemischen Prozessschritt (mittels eines Lösungsmittels) entfernt wird.

• Eingabe von Designs komfortabel via CAD und Windows-PC
   
• Echtzeit Autofokus-System (hält Substrat immer im Fokus des Schreibstrahles)
  • Pneumatischer Autofokus (robust)
  • Zweiter, alternativer Autofokus: optisch, mit rotem Laser (weniger Rückwirkung, weniger robust)
     
• integriertes Kamerasystem (zur Ausrichtung und Untersuchung von Belichtungen)
   
• Belichtung durch einen Diodenlaser mit 375 nm Wellenlänge (UV) und maximaler Leistung 70 mW.
   
• Positionsmessgenauigkeit von bis zu 200nm

• x,y-Tisch mit Multi-Zonen Vakuum Chuck für unterschiedliche Substratgrößen, Luftlagern, Linearmotor und Linear-Encodern mit einer Auflösung von 20nm

• Substratgrößen bis zu 150x150 mm², maximale Substratdicke von 6mm

• Belichtungsfläche bis 125x125 mm²

• Belichtungen im Raster- oder Vektormodus möglich